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            蝕刻機和光刻機有什么區別?

            返回列表 來源:華誼智能科技 發布日期:2020-05-23 16:33:46 點擊:

                zui近光刻機和蝕刻機一直都是當前zui熱的話題,可以說光刻機是芯片制造的魂,蝕刻機是芯片制造的魄,要想制造高端的芯片,這兩個東西都必須頂尖。

                這倆機器zui簡單的解釋就是光刻機把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面,刻蝕機再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉,這樣看起來似乎沒什么難的,但是有一個形象的比喻,每一塊芯片上面的電路結構放大無數倍來看比整個北京都復雜,這就是這光刻和蝕刻的難度。
                光刻的過程就是現在制作好的硅圓表面涂上一層光刻膠(一種可以被光腐蝕的膠狀物質),接下來通過光線(工藝難度紫外光<深紫外光<極紫外光)透過掩膜照射到硅圓表面(類似投影),因為光刻膠的覆蓋,照射到的部分被腐蝕掉,沒有光照的部分被留下來,這部分便是需要的電路結構。
                蝕刻分為兩種,一種是干刻,一種是濕刻(目前主流),顧名思義,濕刻就是過程中有水加入,將上面經過光刻的晶圓與特定的化學溶液反應,去掉不需要的部分,剩下的便是電路結構了,干刻目前還沒有實現商業量產,其原理是通過等離子體代替化學溶液,去除不需要的硅圓部分。
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